Laborausstattung

Das Labor besteht aus einem etwa 50 qm großen Reinraumbereich (Klasse 1 bis 100) mit dazugehörigen Schleuse, einem Geräteraum und einem Bürobereich. An Mikrostrukturierungstechniken sind hier etabliert:

• Photolithographische Prozesse (Standard-Resisttechnologien, Dickresist-Technologie mit SU-8, Image-Reversal)
• Doppelseitige UV-Blichtung (Maskaligner Karl Süss, Kontakt- bzw. Proximitybelichtung, 4", 5")
• Laserdirektschriben (Heidelberg Instruments μPG 101, 325nm, versch. Foki)
• Nasschemische isotrope und anisotrope Ätztechnik (vornehmlich für Silizium)
• Trockenätztechnik (Reactive Ion Etching-ICP, Oxford Plasma Pro100 Cobra)
• Beschichtungstechniken (PECVD, Spin Coating; andere Verfahrn, wie DC- und HF-Magnetronsputtern, thermische Verdampfung sowie ALD finden sich im Labor für Vakuumtechnik)
• Vereinzelung von Silizium- und Glaswafern (Wafer-Ritzautomat Karl Süss sowie Wafersäge DISCO)
• Aufbau zur Zwistrahlinterferenzlithographie (ausgelagert im Labor für optische Materialeignschaften, Raum U23)
• Theta – 2 Theta – Messplatz (z.B. zur Aufnahme von Reflexionsspektren und zur Analyse der Beugung an optischen Mikrostrukturen, Standort U23)

Zur Charakterisierung von Mikrostrukturen, für Mess- und Detektionszwecke, sind vorhanden:

• verschiedene optische Mikroskope (mit CCD-Kamera und Bildverarbeitung)
• AFM-STM (PARC Scientific CP2)
• Schichtdicken- und Oberflächen-Profilometer (DEKTAK 3)
• Konfokaler Chromatischer Oberflächentaster (PRECITEC CHROCODILE; U23)
• Interferenzoptisches Schichtdickenmessgerät
• Spektroskopisches Ellipsometer und Weißlichtinterferometer (im Labor für Technische Optik)
• Rasterelektronenmikroskop (im Femtosekundenlaser-Labor)

Das Labor ist vernetzt mit anderen Laboren des IMtech, vor allem mit denen zur Technischen Optik, Vakuumtechnik und Spektroskopie. Auf deren Potenzial, im Sinne von Anlagen, Messmethoden, Know-how wird bei Projekten, aber auch bei Lehrveranstaltungen, zurückgegriffen.