Ausstattung

Bereich Mikrosystemtechnik

  • Reinraum der Klasse 3
  • Laserlithographiegerät µPG 101 von Heidelberg Instruments zur Herstellung von Strukturen im sub-μm-Bereich (bis etwa 0,6 μm) ohne Lithographiemasken
  • RIE-ICP-Anlage (Plasmalab System 100 von Oxford Instruments) zur flexibleren Einstellung der Ätzparameter wie Anisotropie, Flankenwinkel, Ätzrate und Oberflächenrauheit
  • Photolithographische Prozesse (Image-Reversal-Resisttechnologie, Dickresist-Technologie mit SU-8, vielfältige Standard-Resisttechnologien)
  • Doppelseitiger Maskaligner (Karl Süss, Kontakt- bzw. Proximitybelichtung)
  • Nasschemische isotrope und anisotrope Ätztechnik (für Silizium und Gläser)
  • Trockenätztechnik (Reactive Ion Etching) und Ionenstrahlätzen
  • Beschichtungstechniken (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)
  • Wafer-Ritzautomat (Karl Süss), Wafersäge DISCO zum Vereinzeln von Silizium- und Glaswafern
  • Aufbau zur Mehrstrahlinterferenzlithographie
  • Theta – 2 Theta – Messplatz, z.B. zur Analyse der Beugung an optischen Mikrostrukturen
  • Magnetron Sputter Anlage
  • HF-Sputter Anlage
  • Quattropol Massenspektrometer
  • Thermische Beschichtungsanlagen
  • Elektronenstrahlverdampfer

 

Zur Charakterisierung der Mikrostrukturen dienen u.a.:

  • Rasterkraftmikroskop AFM-STM PARC Scientific CP2
  • Schichtdicken- und Oberflächen-Profilometer DEKTAK 3
  • Chromatischer Oberflächentaster PRECITEC CHROCODILE
  • Mehrere Optische Mikroskope mit CCD-Kamera, Bildverarbeitung etc.
  • Interferenzoptisches Schichtdickenmessgerät
  • Spektroskopisches Ellipsometer und Weißlichtinterferometer
  • Rasterelektronenmikroskop JEOL

Bereich Photonik

  • Vibrationsgedämpfter Lasertisch M-RS2000 inklusive Lasersicherheitseinrichtung, Flowboxen und Klimatisierung
  • Ti:Sapphire Festkörperlaseroszillator Mai Tai von Newport Spectra Phyasics, 84 MHz, 25fs, >400 mW @ 800 nm, Seed Laser des Laserverstärkers
  • Festkörperlaser, Ascend 60, 527 nm, 1 kHz, 30 W, 140 ns, 35 mJ, Pump Llaser des Laserverstärkers und  für ns-Lasertemper-Experimente
  • Ti:Sapphire Laser Verstärker System Spitfire ACE von Newport Spectra Physics, 7 W @ 800 nm, 1 kHz and umstellbnar auf 10 kHz, 100 fs, 7 mJ Pulsenergie @ 1 kHz für die Herstellung von Femtosekundenlaser Schwefel hyperdotiertem schwarzem Silizium
  • Optisches Ergänzungskit zum Umbauen des Verstärkers auf 35fs Laserpulsdauer
  • Laserstrahl- und Pulscharakterisierungsausrüstung (Autokorrelator inklusive Detektormodule, IR-Viewer, Strahlleistungsmessgerät, Spektrometer zur Bandbreitenmessung, Strahlprofilometer)
  • Computergesteuerte Strahlabschwächung
  • 3D-Microscanner von Lightfab: kombiniertes Galvanometer-/mechanisches laserscansystem
  • Hochpräzise 3-achs mechanische Stage von Newport, 150 mm Verfahrweg
  • Spektroskopisches Ellipsometer und Weißlicht-Spektrometer von Perkin Ellmer (200-3300nm)
  • UV-VIS-NIR Spektrometer mit Ulbrichtkugel von Perkin Ellmer